在IC加工中光刻的主要工艺作用

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查看11 | 回复1 | 2010-6-2 13:31:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
和刻蚀一起完成图形从Mask转移到Wafer上。光刻是把图形转印到光刻胶上,刻蚀是去掉没有光刻胶掩蔽处的材质。
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