请教EPI是什么工艺 ?

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查看11 | 回复10 | 2013-10-10 03:17:22 | 显示全部楼层 |阅读模式
外延生长是在单晶衬底(基片)上生长一层有一定要求的、与衬底晶向相同的单晶层,犹如原来的晶体向外延伸了一段,故称外延生长。外延生长技术发展于50年代末60年代初。
               
       
       
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千问 | 2013-10-10 03:17:22 | 显示全部楼层
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千问 | 2013-10-10 03:17:22 | 显示全部楼层
跟LPCVD 差不多,它是在高温1130度的密封容器内,通入特气(SIHCL3)+H2 在SUB衬底表面生长一层单晶硅的过程当然,也有很多外延缺陷,最常用的QC项目有TVG(厚度) ,RVG(表面电阻), Particle
               
       
       
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千问 | 2013-10-10 03:17:22 | 显示全部楼层
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千问 | 2013-10-10 03:17:22 | 显示全部楼层
Epi_wafer: 在single crystal wafer上再dep一層single crystal Si ,Improve the performance of bipolar transistor, with high breakdown voltage of the collector-substrate junction and low collector resistance. Lightly doped epiwafer minimizes latch-up effect, accurately controlled doing concentration.是在原本Heavily doped substrate上,以的方式成長一層Lightly doped Epi-layer,以作為CMOS製程的底材。因此CMOS是直接建立在Lightly doped Epi-layer上,而Heavily doped substrate則作為接地。此可使CMOS中直立式pnp雙載子寄生電晶體的電流不易橫向地流往寄生的npn電晶體,而流向Heavily doped substrate。因為底材接地,寄生pnp與npn的閉鎖(Latch up)現象可被抑制,但相對使用Epi-Wafer會提高成本。
               
       
       
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千问 | 2013-10-10 03:17:22 | 显示全部楼层
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千问 | 2013-10-10 03:17:22 | 显示全部楼层
EPI , grow a layer of crystal silicon on substratethe oritenation of EPI film is the same as sub
               
       
       
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千问 | 2013-10-10 03:17:22 | 显示全部楼层
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千问 | 2013-10-10 03:17:22 | 显示全部楼层
EPI就是外延了,主要是通过高温条件1130度,通入特定的GAS (SiHCL3+H2)还原成单晶硅SI 的工艺过程
               
       
       
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千问 | 2013-10-10 03:17:22 | 显示全部楼层
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