紫外光负胶的显影液和清洗液的成分是什么

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查看11 | 回复0 | 2007-10-19 18:30:41 | 显示全部楼层 |阅读模式
半导体工艺——光刻紫外负性光刻胶显影液:二甲苯。清洗液:乙酸丁脂或乙醇、三氯乙烯。显影中的常见问题:a、显影不完全(Incomplete Development)。表面还残留有光刻胶。由显影液不足造成。b、显影不够(Under Development)。显影的侧壁不垂直。由显影时间不足造成。c、过度显影(Over Development)。靠近表面的光刻胶被显影液过度溶解,形成台阶。由显影时间太长造成。
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