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0 | 2021-2-28 11:35:53 | 显示全部楼层 |阅读模式

由于在光刻机领域的技术短板，导致我国半导体企业在芯片制造上一直无法取得进展，长期处于受制于人的局面！不过近日随着清华大学工程物理系教授唐传祥团队在这一领域的重大突破，让我们再次看到了攻克光刻机技术瓶颈的希望！这次清华团队的研究成果，基于SSMB的极紫外光源有望实现更大功率，并且还具备更短波长的潜力，可能成为未来EUV光刻机的光源。可以说这个研究成果来的正是时候。美国一直是大功率高频光源的领导者，光刻机唯一一个不可替换的美国核心技术，如果这次真的搞成了，那相当于直接把车轮子碾在美国脸上了，在美国叫嚣禁售芯片之际，此时放出消息正当时。#科技日报##光刻机#

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